euv光源样机可以生产7纳米以下的芯片。
因为该光源采用极紫外光技术，可以在短波长下进行制作，且相比传统光刻技术，极紫外光技术的光源具有更高的能量和更小的波长，能够更精确地制作芯片。
同时，该光源的使用需要严格的环境控制和专业人员操作，因此只能在实验室等特定条件下进行生产。
此外，euv光源样机生产的芯片不仅技术含量高，且生产成本也十分昂贵，目前只有少数专业厂商才具备生产能力。
euv光刻机是荷兰ADML公司制造的。
荷兰ASML公司是一家总部设在荷兰埃因霍温（Eindhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。
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